Mensaje de Gate News, 27 de abril — El Tribunal de Propiedad Intelectual y Comercial de Taiwán ha emitido un fallo de primera instancia en el caso de secreto comercial del proceso de 2nm de TSMC. Chen Li-ming, ex empleado de TSMC y de la filial taiwanesa de Tokyo Electron, fue condenado a 10 años de prisión, mientras que la filial taiwanesa de Tokyo Electron fue multada con NT$150 millones.
El tribunal consideró que Chen se incorporó a la filial taiwanesa de Tokyo Electron en un puesto de marketing después de dejar TSMC y solicitó a ingenieros de TSMC materiales avanzados del proceso que aún estaban empleados allí. La información robada se utilizó para ayudar a Tokyo Electron a obtener más pedidos de equipos de TSMC. Los datos comprometidos incluían secretos comerciales relacionados con equipos de grabado (etching) utilizados en la producción de 2nm, y algunos materiales se obtuvieron mediante fotografía y duplicación.
Tres empleados adicionales de TSMC involucrados —Wu Bing-jun, Ge Yi-ping y Chen Wei-jie— recibieron sentencias de 3 años, 2 años y 6 años, respectivamente. El empleado de la filial taiwanesa de Tokyo Electron Lu Yi-yin fue condenado a 10 meses con una libertad condicional de 3 años. La multa de NT$150 millones de la filial de Tokyo Electron puede suspenderse si la empresa compensa a TSMC con NT$100 millones y paga NT$50 millones al tesoro público.