Intel mengadopsi litografi EUV High NA generasi berikutnya dari ASML untuk produksi Panther Lake

INTC-6,00%
ASML0,17%
Menurut ASML, Intel mulai menggunakan peralatan litografi EUV High Numerical Aperture (High NA) generasi berikutnya milik ASML untuk memproduksi prosesor notebook Panther Lake pada Selasa (15 Juli). Langkah ini mengikuti uji coba eksperimental yang dimulai pada 2024, dengan Intel kini menerapkan alat canggih tersebut dalam produksi skala penuh untuk meningkatkan efisiensi produksi.
Penafian: Informasi di halaman ini mungkin berasal dari sumber pihak ketiga dan hanya untuk referensi. Ini tidak mewakili pandangan atau pendapat Gate dan bukan merupakan nasihat keuangan, investasi, atau hukum. Perdagangan aset virtual melibatkan risiko tinggi. Mohon jangan hanya mengandalkan informasi di halaman ini saat membuat keputusan. Untuk detailnya, lihat Penafian.
Komentar
0/400
Tidak ada komentar