ASMLs EUV-Lithografie bleibt Chinas 'härteste Hürde' beim Halbleiter-Vorstoß, so ein niederländischer Experte.

Laut Marc Hijink, in einem Beitrag für Het Nieuwe Rijnmond, steht Chinas Halbleiterindustrie vor ihrer bedeutendsten technischen Hürde: der extremen Ultraviolett-Lithografie (EUV), die derzeit ausschließlich vom niederländischen Ausrüstungsriesen ASML hergestellt wird – ohne verfügbare Alternativtechnologie.

Hijink merkte an, dass ASML rund 15 Jahre brauchte, um die EUV-Technologie vom Laborprinzip zur Massenproduktion zu bringen, wobei komplexe Lichtquellen und Präzisionsfertigung integriert wurden. Der japanische Konkurrent Nikon, der über 100 Milliarden Yen in die EUV-Forschung investierte, scheiterte an der Entwicklung kommerziell nutzbarer Geräte und zog sich vom Markt zurück. China hingegen hat jahrelang in die EUV-Forschung investiert und Patente gesichert, verfügt jedoch weiterhin über keine kommerzialisierte Produktionsausrüstung. Hijink betonte, dass die EUV-Entwicklung unter den derzeitigen Exportkontrollen für chinesische Unternehmen ein technologisches „Niemandsland“ darstelle, das Ressourcen konzentriere, die kein einzelnes Unternehmen einfach nachbilden könne.