Applied Materials запускає дві нові системи для 3D-виробництва пластин (wafer) у понеділок

Applied Materials у понеділок (15 червня) представила дві нові системи, призначені для подолання проблем точного виробництва у високовідношених (high aspect ratio) 3D-структурах для передової логіки та чіпів пам’яті.

Системи Centris Spectral SiN ALD і Producer Selectra Mo Etch націлені відповідно на осадження діелектричних тонких плівок і вибіркове видалення металу. Як зазначає компанія, обидві системи вже перебувають у масовому виробництві та використовуються провідними виробниками логічних і чіпів пам’яті для передових вузлів. Акції зросли на 3,27% до $585,78, встановивши новий історичний максимум.

Застереження: інформація на цій сторінці може походити зі сторонніх джерел і надається виключно для ознайомлення. Вона не відображає позицію чи думку Gate і не є фінансовою, інвестиційною чи юридичною консультацією. Торгівля віртуальними активами пов’язана з високим ризиком. Будь ласка, не покладайтеся лише на інформацію з цієї сторінки під час прийняття рішень. Детальніше дивіться у Застереженні.
Прокоментувати
0/400
Немає коментарів