За повідомленням Reuters, виробник обладнання для напівпровідників ASML у п’ятницю (19 червня) спростував, що будь-коли відправляв до Китаю системи літографії з екстремальним ультрафіолетом (EUV). Компанія заявила електронною поштою: «ASML ніколи не відправляла в Китай системи літографії EUV, а також не постачала жодних компонентів, модулів або обладнання, призначених спеціально для систем EUV, у Китай».
Спростування з’явилося після повідомлень, що міністр торгівлі США Говард Лютнік висловив занепокоєння щодо можливого потрапляння EUV-обладнання до Китаю в порушення експортних обмежень, запроваджених США. Нідерландський уряд також додатково підтвердив суворе виконання правил експорту напівпровідників у межах європейського контролю за товарами подвійного призначення та національних заходів, заявивши, що «все обладнання, компоненти й технології, на які поширюються ці регуляторні вимоги, потребують ліцензування та підлягатимуть втручанню, коли це буде необхідно».