根據《Het Nieuwe Rijnmond》記者 Marc Hijink 的報導，中國半導體產業面臨最重大技術瓶頸在於極紫外光（EUV）微影設備，該設備目前僅由荷蘭設備巨頭 ASML 獨家製造，且無替代技術可用。
Hijink 指出，ASML 花費約 15 年時間，從實驗室原理發展到量產 EUV 技術，整合了複雜的光源與精密製造能力。日本競爭對手 Nikon 雖投入超過 1000 億日元進行 EUV 研發，但未能產出商業化可行設備，最終退出市場。與此同時，中國投入多年研究 EUV 並取得專利，但至今仍無商業化量產設備。Hijink 強調，在當前出口管制下，EUV 開發對中國企業而言是一片技術「無人區」，其所需的資源集中程度非任何單一企業所能輕易複製。
