根據《南華早報》，中國的晶片設計軟體公司正在支持華為的 Tau Scaling Law（Tau 尺度定律）；該框架於上個月下旬推出，目標是在降低對受美國制裁限制的西方光刻工具依賴的情況下設計先進晶片。
Empyrean Technology 是一家中國 EDA 軟體供應商，已推出其 Argus 實體驗證平台，並與 3D 積體電路設計工具整合。另方面，北京大學研究人員公布了一款與華為的 LogicFolding 架構相容的原型 EDA 工具；該架構將電路垂直堆疊，以加速資訊傳輸，而不只是單純縮小電晶體。上述行動反映出，隨著美國出口管制日益嚴格，中國晶片設計師正尋求在地替代方案。
