Gate News 消息，4月27日——台湾知识产权与商事法院已就台积电 2nm 工艺商业秘密案件作出一审判决。陈立明，曾同时就职于台积电与东京电子在台湾的子公司，被判处10年有期徒刑；而东京电子在台湾的子公司被罚新台币 NT$150 million。
法院认定，陈在离开台积电后加入东京电子在台湾的子公司担任营销角色，并向仍在职的台积电工程师索取先进工艺材料。被窃取的信息用于帮助东京电子从台积电获得更多设备订单。涉案数据包括与用于2nm制程生产的刻蚀设备相关的商业秘密，其中部分材料通过拍照与复制获得。
另外三名涉案的台积电员工——吴秉钧、葛以平和陈伟杰——分别获判3年、2年和6年。东京电子在台湾的子公司员工卢怡吟被判10个月，缓刑3年。东京电子对新台币 NT$150 million 的罚款可在公司补偿台积电新台币 NT$100 million 并向公共财政部门支付新台币 NT$50 million 后予以暂缓执行。
