أطلقت Applied Materials يوم الاثنين نظامين جديدين لتصنيع الرقائق على شكل 3D

قدّمت Applied Materials يوم الاثنين (15 يونيو) نظامين جديدين لمعالجة تحديات التصنيع الدقيق في هياكل ثلاثية الأبعاد عالية النِّسب (high aspect ratio) لمنطق أشباه الموصلات والشرائح الخاصة بالذاكرة المتقدمة.

يستهدف نظاما Centris Spectral SiN ALD و Producer Selectra Mo Etch على التوالي عمليات ترسيب الأغشية الرقيقة للعوازل والإزالة الانتقائية للمعادن. ووفقاً للشركة، فإن النظامين قيدان بالفعل ضمن الإنتاج الشامل لدى أبرز مُصنّعي شرائح المنطق والذاكرة للعُقد المتقدمة. وارتفع السهم بنسبة 3.27% إلى 585.78 دولاراً، مسجلاً مستوىً قياسياً جديداً.

إخلاء المسؤولية: قد تكون المعلومات الواردة في هذه الصفحة مستمدة من مصادر خارجية وهي للمرجعية فقط. لا تمثل هذه المعلومات آراء أو وجهات نظر Gate ولا تشكل أي نصيحة مالية أو استثمارية أو قانونية. ينطوي تداول الأصول الافتراضية على مخاطر عالية. يرجى عدم الاعتماد حصرياً على المعلومات الواردة في هذه الصفحة عند اتخاذ القرارات. لمزيد من التفاصيل، يرجى الرجوع على إخلاء المسؤولية.
تعليق
0/400
لا توجد تعليقات