ASML weist zurück, dass am Freitag EUV-Lithographiesysteme nach China geliefert wurden; Niederlande bekräftigt Exportkontrollen

Laut Reuters hat der Hersteller von Halbleiteranlagen ASML am Freitag (19. Juni) bestritten, jemals Systeme für die extreme Ultraviolett-(EUV)-Lithografie nach China geliefert zu haben. Das Unternehmen erklärte per E-Mail: „ASML hat niemals EUV-Lithografie-Systeme nach China verschickt, und es hat auch keine Komponenten, Module oder Ausrüstung geliefert, die speziell für EUV-Systeme entwickelt wurden.“

Die Zurückweisung erfolgt nach Berichten, wonach der US-Handelsminister Howard Lutnick Bedenken geäußert habe, dass potenziell EUV-Ausrüstung nach China gelangen könnte und damit gegen die von den USA angeführten Exportkontrollen verstoßen würde. Die niederländische Regierung bekräftigte ebenfalls die strikte Durchsetzung der Exportvorschriften für Halbleiter unter europäischen Dual-Use-Kontrollen und nationalen Maßnahmen und erklärte: „Alle Ausrüstungen, Komponenten und Technologien, die von diesen Vorschriften erfasst sind, erfordern eine Lizenz und werden Gegenstand einer Intervention sein, wenn dies erforderlich ist.“