台湾法院判处 TSMC 2nm 商业秘密泄露者 10 年,并罚款东京电子子公司 1.5 亿新台币

GateNews

Gate News 消息,4月27日——台湾知识产权及商事法院在台积电 2nm 工艺商业秘密案中作出一审判决。陈立铭,曾同时任职于台积电和东京电子在台湾的子公司,被判处 10 年有期徒刑;同时,东京电子在台湾的子公司被罚款 1.5 亿新台币。

法院认定,陈在离开台积电后,以市场营销岗位加入东京电子在台湾的子公司,并向仍在职于台积电的工程师索取先进工艺材料。被窃取的信息被用于帮助东京电子从台积电获得更多设备订单。受影响的数据包括与用于 2nm 生产的蚀刻设备相关的商业秘密,其中部分材料是通过摄影和复制获取的。

另外三名涉案的台积电员工——吴秉钧、葛怡萍和陈威杰——分别被判处 3 年、2 年和 6 年。东京电子台湾子公司员工卢怡胤被判处 10 个月,缓刑 3 年。若东京电子同意向台积电补偿 1.5 亿新台币,并向公共金库支付 1.5 亿新台币,东京电子的 1.5 亿新台币罚款可予以暂停执行。

Отказ от ответственности: Информация на этой странице может поступать от третьих лиц и не отражает взгляды или мнения Gate. Содержание, представленное на этой странице, предназначено исключительно для справки и не является финансовой, инвестиционной или юридической консультацией. Gate не гарантирует точность или полноту информации и не несет ответственности за любые убытки, возникшие от использования этой информации. Инвестиции в виртуальные активы несут высокие риски и подвержены значительной ценовой волатильности. Вы можете потерять весь инвестированный капитал. Пожалуйста, полностью понимайте соответствующие риски и принимайте разумные решения, исходя из собственного финансового положения и толерантности к риску. Для получения подробностей, пожалуйста, обратитесь к Отказу от ответственности.
комментарий
0/400
Нет комментариев