三星電子正在其 4nm 製造廠量產環境中測試 S&S Tech 的 (101490) 國產 EUV 空白掩模。這是這些掩模首次在實際生產線上引入

目標是降低對日本 Hoya 的依賴，加強供應鏈韌性，並獲得更多的定價籌碼
據報導，三星一直在向 S&S Tech 提供反饋以改善品質，而 S&S Tech 已經在檢測設備和新永仁工廠上投入大量資金以支持這一努力。如果本地化成功，三星每年可能節省數百億韓元並縮短交貨時間，儘管大規模生產訂單仍可能需要六個月到一年以上
“一位業內人士表示，我了解到 S&S Tech 的掩模正在用於 EUV 過程，即使在 4nm 節點內，這個過程相對要求較低。它們在實際量產線上測試樣品，顯示出對本地化的強烈承諾。”該人士補充說，三星旨在減少對日本 Hoya 的依賴，並隨著時間推移，獲得更大的定價權
空白掩模是用於半導體製造中將電路圖案轉移到晶圓上的光罩的基材。它通常由在高純度玻璃基板上沉積一層金屬或化合物薄膜製成。晶片製造商然後在空白掩模上雕刻電路圖案，以製作最終的光罩
EUV 空白掩模與傳統的深紫外（DUV）產品有顯著不同。DUV 空白掩模是透射式的，意味著紫外光穿過基板在晶圓上形成圖案。而 EUV 空白掩模則是反射式的，意味著極紫外光被反射而非透過。它們由約 40 對 molybdenum 和 silicon 層交替堆疊在玻璃基板上製成。由於 EUV 的波長較短，即使是極小的缺陷也可能至關重要，這使得製造和檢測都更加苛刻
去年初，S&S Tech 在日本 Lasertec 的檢測設備上投資超過 400 億韓元，用於其 EUV 空白掩模線。據報導，該設備已安裝在公司去年十月完成的新永仁工廠
三星電子目前大部分 EUV 空白掩模都從日本 Hoya 進口。然而，由於日本地震等中斷，過去曾多次面臨採購問題。儘管 Hoya 在新加坡擴大產能以應對這些問題，但半導體行業內的擔憂仍然存在
EUV 空白掩模每片成本高達數千萬韓元，而高端版本甚至超過一億韓元。據悉，如果 S&S Tech 能成功本地化供應，三星預計每年可節省數百億韓元，並縮短交貨時間
“一位業內人士表示，我了解到 S&S Tech 現在正根據三星電子的反饋進行粒子產生減少的改進。大規模生產訂單可能需要六個月到一年多的時間才能發出。”