Intel 为 Panther Lake 生产采用 ASML 下一代高数值孔径(High NA)EUV 光刻技术

INTC-5.55%
ASML0.97%
据 ASML 称,英特尔于周二(7 月 15 日)开始使用 ASML 下一代高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻设备来生产 Panther Lake 笔记本处理器。此举继 2024 年的试验性试产之后,英特尔现已在大规模制造中部署该先进工具,以提升生产效率。
免责声明:本页面信息可能来自第三方,仅供参考,不代表 Gate 的观点或意见,亦不构成任何财务、投资或法律建议。数字资产交易风险较高,请勿仅依赖本页面信息作出决策。具体内容详见声明
评论
0/400
暂无评论