Công nghệ quang khắc EUV của ASML vẫn là rào cản chip quan trọng nhất của Trung Quốc, theo nhà quan sát Hà Lan.

Theo nhà quan sát bán dẫn Hà Lan Marc Hijink viết gần đây trên một ấn phẩm Hà Lan, nút thắt cổ chai khó khăn nhất của Trung Quốc trong phát triển bán dẫn vẫn là thiết bị quang khắc cực tím (EUV) của ASML, mà không có giải pháp thay thế khả thi nào. Hijink lưu ý rằng ASML đã mất khoảng 15 năm để phát triển công nghệ EUV từ lý thuyết đến sản xuất thương mại, một sự tích hợp phức tạp giữa kỹ thuật nguồn sáng và sản xuất chính xác, nơi các đối thủ bao gồm Nikon của Nhật Bản—đã đầu tư hơn 100 tỷ yên—cuối cùng đã thất bại. Trong khi các công ty Trung Quốc như Huawei đang theo đuổi đột phá trong thiết kế chip thông qua kiến trúc RISC-V mã nguồn mở để vượt qua các hạn chế xuất khẩu của Mỹ đối với công nghệ x86 và ARM, lĩnh vực thiết bị EUV lại đặt ra một thách thức nghiêm trọng hơn nhiều. Trên toàn cầu, ASML duy trì sự thống trị gần như tuyệt đối trong công nghệ EUV, và Trung Quốc hiện không có giải pháp thay thế nội địa khả thi về mặt thương mại. Phân tích nhấn mạnh rằng việc xây dựng một năng lực EUV độc lập dưới các kiểm soát xuất khẩu hiện tại sẽ đòi hỏi phải bước vào lãnh thổ công nghệ chưa được khám phá.
Tuyên bố miễn trừ trách nhiệm: Thông tin trên trang này có thể đến từ các nguồn bên thứ ba và chỉ mang tính chất tham khảo. Thông tin này không phản ánh quan điểm hoặc ý kiến của Gate và không cấu thành bất kỳ lời khuyên tài chính, đầu tư hoặc pháp lý nào. Giao dịch tài sản ảo tiềm ẩn rủi ro cao. Vui lòng không chỉ dựa vào thông tin trên trang này khi đưa ra quyết định. Để biết thêm chi tiết, vui lòng xem Tuyên bố miễn trừ trách nhiệm.
Bình luận
0/400
Không có bình luận