✍️ Gate 廣場「創作者認證激勵計劃」優質創作者持續招募中!
Gate 廣場現正面向優質創作者開放認證申請!
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📕 認證申請步驟:
1️⃣ 打開 App 首頁底部【廣場】 → 點擊右上角頭像進入個人主頁
2️⃣ 點擊頭像右下角【申請認證】,提交申請等待審核
注:請確保 App 版本更新至 7.25.0 或以上。
👉 立即報名:https://www.gate.com/questionnaire/7159
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📅 活動自 11 月 1 日起持續進行
在 Gate 廣場讓優質內容變現,創作賺取獎勵!
活動詳情:https://www.gate.com/announcements/article/47889
中微公司:發布六款半導體設備新產品
金十數據9月4日訊,中微公司公告稱,近日推出六款半導體設備新產品,包括兩款刻蝕設備和四款薄膜沉積設備。刻蝕設備方面,新一代極高深寬比等離子體刻蝕設備PrimoUD-RIE 和專注於金屬刻蝕的PrimoMenova 12寸ICP單腔刻蝕設備,旨在滿足客戶在極高深寬比刻蝕和金屬刻蝕領域的需求。薄膜沉積設備方面,包括三款原子層沉積產品和一款外延產品,如PreformaUniflash 金屬柵系列和PRIMIOEpita RP雙腔減壓外延設備。這些新產品預計將對公司未來半導體設備市場拓展和業績成長性產生積極影響。新產品尚處於市場導入初期,存在市場推廣和客戶驗證等風險,可能對公司收入和盈利帶來不確定性。