台湾法院判处 TSMC 2nm 商业秘密泄露者 10 年，罚款东京电子子公司 新台币 1.5 亿

Gate News 消息，4 月 27 日——台湾知识产权与商事法院就 TSMC 2nm 工艺商业秘密案作出一审判决。陈立铭，曾同时任职于 TSMC 和东京电子位于台湾的子公司，被判处 10 年监禁，而东京电子位于台湾的子公司被罚款新台币 1.5 亿。

法院认定，陈在离开 TSMC 后以市场营销岗位加入东京电子位于台湾的子公司，并向仍在职的 TSMC 工程师索取先进工艺材料。被盗信息被用于帮助东京电子从 TSMC 获得更多设备订单。遭到侵害的数据包括与用于 2nm 生产的刻蚀设备相关的商业秘密，其中部分材料是通过拍照与复制获得的。

另外三名涉案的 TSMC 员工——吴秉均、葛怡萍和陈伟杰——分别获判 3 年、2 年和 6 年。东京电子台湾子公司员工卢怡吟被判处 10 个月，并给予 3 年缓刑。东京电子处以的新台币 1.5 亿罚款若公司向 TSMC 补偿新台币 1.5 亿，并向公共财政金库缴纳新台币 1.5 亿，则可被中止执行。