中国メモリの双璧が6,300億人民元を投入し、長鑫のDDR5月間生産能力は35万枚

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長鑫存儲(CXMT)と長江存儲(YMTC)は合計で630億人民幣の資本支出を投じ、生産ラインを拡張する予定だ。計画が予定通りに完了すれば、2026年末の長鑫存儲のDRAM月間生産能力は35万枚に迫り、米国のMicronが同時期に見込む37.5万枚との差は1割未満となる。

長鑫存儲のDUV多重露光ロードマップ

報道によると、長鑫存儲はEUV(極紫外線)露光装置を入手できない状況で、その解決策として旧型のDUV(深紫外線)装置に切り替え、多重露光技術を追加する方針を採っている。すなわち、同一のウエハを何度も露光することで製造工程のステップ数を増やし、もともとEUVでないと到達できなかった回路の微細化を実現する。代償として、歩留まりの向上やコスト増加の負荷はあるが、その見返りとして、出荷可能なDDR5(8000MT/s)およびLPDDR5Xメモリーモジュールを実現し、AIサーバー需要の高い市場に直接アプローチできる。

また、長鑫存儲は約12か月でクリーンルームを建設できる効率を持ち、世界的に設備の納期遅延が続く環境下で時間差の優位性を確保している。長鑫存儲が生産設備の歩留まりを向上させている間、競合は依然として設備の納期待ちをしている可能性がある。

中国半導体設備の国産化と技術の分散

報道によれば、今回の増産がサプライチェーンに与える影響には、中国半導体設備の国内調達比率が現在約23.2%(70%以上でも輸入に依存)であることが含まれる。一方、長鑫存儲の2026年の調達見通しは国内サプライヤーに対して約100億人民幣の新規ビジネスをもたらし、「市場がサプライヤーを育て、サプライヤーが逆に歩留まりを向上させる」という好循環を形成する見込みだ。輸入依存比率は今後年々低下していくと予測される。

技術分散の観点では、中国政府は長鑫存儲に対し、DRAM技術IP(製造プロセスの特許とノウハウ)を福建晉華、昇維旭、そして長江存儲の子会社である新芯へ移転させるよう推進している。狙いは、米国による制裁の単点攻撃の効果を薄めることと、将来的なEU・米国市場参入に向けた準備を整えることにある。

よくある質問

長鑫存儲はEUV装置なしでどのように先進DDR5を製造するのか?

報道によると、長鑫存儲はDUV(深紫外線)装置に多重露光技術を組み合わせている。すなわち、同一のウエハを複数回露光して製造工程のステップを増やし、より微細な回路を実現する。代償は歩留まりの低下やコスト増だが、その結果、長鑫存儲はDDR5(8000MT/s)およびLPDDR5Xメモリーモジュールを生産し、AIサーバー市場に直接供給できる。

長鑫存儲の2026年末のDRAM月間生産能力は米国のMicronと比べてどうか?

アナリストによると、長鑫存儲の増産計画が予定通りに完了すれば、2026年末の月間生産能力は35万枚に迫る。米国のMicronは同時期の月間生産能力を約37.5万枚と見込んでおり、差は1割未満(約6.7%)となる。長江存儲のNANDについては、満載後の月間生産能力が17万枚を超える見込みだ。具体的な数字は各社の公式決算資料や産業研究機関の最新レポートに基づく。

中国のメモリ増産は世界の半導体製造装置市場にどのような影響を与えるか?

SEMI(国際半導体産業協会)の予測によると、世界の半導体製造装置市場は2024年の1,166億ドルから2027年の1,556億ドルへと成長し、市場規模は拡大する。中国企業の増産計画もこの成長の一端を担うが、世界の主要メモリメーカー3社(Samsung、SKハイニックス、美光)も同時に設備投資を強化しており、競争は引き続き激化している。

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